- 1. 微纳制造及智能传感
针对微纳结构多材料表/界面调控的关键难题,提出了微纳尺度域内多材料表/界面的结构场调控成型与驱动理论模型,发现了多材料体相结构的调控机制,提出了多材料表/界面设计与精确调控的理论模型,发展了多材料表/界面结构的纳米精度制造与微域调控方法,突破了微域光信息的精确操控难题。
|
|
| 图1 多材料表/界面结构的纳米精度外场调控制造原理与方法 |
- 2. 光电子器件的跨尺度制造及应用
针对大幅面微纳米结构一致性制造的难题,发展了外场调控的连续滚压印制造技术,实现了幅面为700×800 mm2,特征结构尺寸<500nm周期的二维光栅、直径650 mm的圆光栅及ϕ500mm的“超精密圆光栅角度传感器”的高精度制造。开发的在非平面结构化光阑,保证了异形面上微结构图形的一致性,解决了航天用红外探测器视场不规则、一致性较差的难题,推广应用于国防工业的高精密测量系统或装置中。
|
|
| 图2 大幅面二维光栅的跨尺度制造及应用 |
- 3. 超精密测量
提出了弱干涉信号的位姿解析理论模型,发展了时空域光栅纳米级细分新技术,实现了光栅信号的实时全参量闭环补偿和多自由度读数系统,测量分辨率达到0.25 nm。技术上不仅突破了国外技术封锁、产品禁运的卡脖子局面,自制知识产权的核心技术在国际行业内上形成了互补性。
|
|
| 图3 二维光栅弱干涉信号的读数技术与读数系统 |




