【论文发表】课题组班耀文博士论文被JMM录用发表
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发布时间：2018-06-29
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文章标题：【论文发表】课题组班耀文博士论文被JMM录用发表
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【论文发表】课题组班耀文博士论文被JMM录用发表
班耀文博士的论文《Pre-stress-assisted nanoimprint lithography for fabricating high-density diffraction gratings》被Journal of Micromechanics and Microengineering(JMM)录用发表。
班耀文博士提出了预应力辅助纳米压印光刻制造高密度柔性衍射光栅的新方法，进行了形貌和衍射性能表征分析，并对作用机理进行了深入的研究。
与传统的纳米压印光刻方法1:1复制相比，该方法的优点在于可制造比主模具有更小周期的光栅。本文通过释放预应力来制造具有较小周期的光栅，并且随着光栅周期的减少而光栅质量没有显降低。光栅周期可以通过改变预应力的程度来控制。在实验中，获得的光栅周期最大缩减比例约为25%。实验结果验证了所提出的用于制造高密度衍射光栅方法的有效性。所提出的方法为使用微米级模具制造亚微米/纳米结构提供了潜在且简单的过程。
该研究成果被Journal of Micromechanics and Microengineering(JMM)杂志发表，影响因子：1.888。