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全真空装备7 - 专利授权:一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法

发布时间:2023-04-07  点击次数:

发布时间:2023-04-07

文章标题:全真空装备7 - 专利授权:一种超高真空环境多功能样品台及样品原位图案化的方法

内容:

   

    该专利主要完成人为已经在本组2021届毕业生吴迪博士,他目前从事半导体芯片制造工艺相关设备研发工作。

 

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