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全真空装备9 - 专利授权:一种超高真空多源共沉积装置

发布时间:2025-10-23  点击次数:

发布时间:2025-10-23

文章标题:全真空装备9 - 专利授权:一种超高真空多源共沉积装置

内容:

该专利主要完成人为本组2024届毕业生张又麒和25届毕业生刘逸凡,两人均从事半导体芯片制造工艺研发工作。

 

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