魏正英

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一种金属微喷熔滴电磁约束沉积成型系统

发布时间:2025-04-30
点击次数:
专利名称:
一种金属微喷熔滴电磁约束沉积成型系统
发明设计人:
杜军、魏正英、陈祯、卢秉恒、李素丽
专利类型:
发明
申请号:
ZL 2014102738674
是否职务专利:
申请日期:
2014-10-02
发布时间:
2025-04-30