Numerical Simulation and Experimental Study on Resist Filling Behavior in UV-nanoimprint Lithography [J].
发布时间：2025-04-30
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- 发布时间：
- 2025-04-30
- 论文名称：
- Numerical Simulation and Experimental Study on Resist Filling Behavior in UV-nanoimprint Lithography [J].
- 发表刊物：
- Procedia CIRP,
- 摘要：
- Du J, Wei Z, Tang Y. Numerical Simulation and Experimental Study on Resist Filling Behavior in UV-nanoimprint Lithography [J]. Procedia CIRP, 2012, 3 (0): 203-208. （SCI:BDS14, EI: 20124415618267）
- 合写作者：
- Du J, Wei Z, Tang Y.
- 卷号：
- 2012, 3 (0)
- 页面范围：
- : 203-208.
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2012-03-19