发布时间：2012-02-22

文章标题：专利授权：可控气孔率的氮化硅多孔陶瓷及制备方法

内容：

发明（申请）人	专利名称	发明（申请）专利号	申请时间	授权时间
杨建锋，鲁元，陆伟忠，刘荣臻，乔冠军，金志浩，李春芳	可控气孔率的氮化硅多孔陶瓷及制备方法	ZL200910219332.8	2009.12.4	2012.2.1