微纳结构是构成微电子、光电子、柔性电子的核心单元，微纳结构的尺寸、形状、位置、精度等直接决定相关器件的性能表现，包括光传输、电传导、热扩散等。因此，微纳结构制造技术是实现集成电路、显示器、传感器、微机械系统、超构表面、储能器件制造的核心技术，微纳结构的制造技术水平直接决定先进器件的性能和产能。NanoMan课题组（团队负责人邵金友教授）依托精密微纳制造技术全国重点实验室（原机械制造系统工程国家重点实验室），以纳米压印光刻为特色，研究先进微纳制造工艺与装备，从制造的角度解决不同需求领域面临的挑战性难题，部分研究方向简介如下，详见NanoMan课题组主页（http://gr.xjtu.edu.cn/web/jyshao）：

1. 【纳米压印光刻工艺与装备】纳米压印光刻是一种模板复制式的光刻技术，与投影式光刻相比不受光学衍射限制，具有5nm以下的高分辨率，以及低成本、高效率的优势，被国际器件与系统路线图列为下一代光刻技术。课题组针对压印光刻的基础科学难题，尤其是微观界面润湿、粘附、摩擦等限制微纳结构成形缺陷率、可靠性和稳定性等问题，致力于寻找先进解决方案，开发原创性压印光刻工艺、材料、装备，支撑我国芯片制造领域先进光刻技术发展。

2.【先进功能表面制造技术】在飞行器、汽车、建筑物等表面制造出具有特殊功能的表面，包括具有感知、探测、传输功能的精密电路，以及具有减阻、增透、抗粘、超疏功能的微纳结构化表面，是实现系统轻量化和智能化的主要途径。课题组针对表面电路和微纳功能结构制造面临的精度、效率、鲁棒性难兼顾问题，从材料、结构、工艺与装备等多个角度系统开发解决方案，掌握高可靠三维曲面电路的先进制造技术。

3.【先进储能器件制造技术】电池、电容等储能器件是制约电动汽车、移动电子设备、无人机、远程活动机器人等续航能力和工作性能的关键因素，该方向从电极微纳结构设计与制造的角度调控电能存储过程，探索高性能电极膜或电极微结构的制造工艺和装备，提高超级电容/锂电池的容量、寿命、充放电速度、力热稳定性和机械柔性等，服务相关领域发展。