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基于纳米粒子掩膜刻蚀的图形化亲疏复合表面制备工艺

发布时间:2025-04-30
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专利名称:
基于纳米粒子掩膜刻蚀的图形化亲疏复合表面制备工艺
发明设计人:
王莉 丁玉成 严诚平 罗钰 崔志波 吕丹辉
专利类型:
发明
申请号:
201310379324.6
是否职务专利:
申请日期:
2013-08-27
发布时间:
2025-04-30