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蒋维涛

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专利

  1. 基于机械力拉伸的大深宽比纳米纤维结构及其制备方法，ZL201310344883.3，已授权，排名：1；
  2. 一种可捕获分子靶标感知触角的制造及位姿操控方法，ZL201510363661.5，已授权，排名：1；
  3. 一种用于可控筛选流体中粒子的微反应器的制备方法, ZL201510931929.0，排名：1；
  4. 一种基于红外光远程充电`的柔性植入式电源的制造方法, ZL201510929601.5，排名：1；
  5. 一种操纵微纳米粒子的柔性微驱动器的制造操控方法， ZL201610209995.1，排名1.
  6. 一种形态可控柔性微纳米柱阵列的制造方法，ZL201610211929.8，排名1。
  7. 一种基于可重构柔性模具的曲面微米柱的制造方法，ZL201610855215.0，排名1.
  8. 一种基于柔性的可在任意曲面制造微纳结构的方法，201610855702.7，排名1；
  9. 一种电场诱导聚合物基功能梯度复合微米柱的制造方法，ZL201610858459.4，20160918排名1；
  10. 一种用于实时监测化学反应过程的方法和装置，CN106289539A，已申请，排名：1；
  11. 一种利用工业废热的柔性发电装置及制造方法，CN106384781A，已申请，排名：1；
  12. 一种用于狭小空间内壁缺陷监测的智能软体机器人，201710710316.3，排名：1；
  13. 复杂腔体内表面微纳结构的自适应随形制造方法，201710710320.X，排名：1；
  14. 基于功能材料微纳三维复杂结构的原位反应直写制造方法，201710710338.X，排名：1；
  15. 以时间基准为参照的精密光栅制造方法，ZL201210371250.7，已授权，排名：2；
  16. 以石墨烯键长为基准的超精密制造装备精度及精度补偿方法，ZL201210371547.3，已授权，排名：2；
  17. 以石墨烯键长作为计量基准的长度计量溯源方法，ZL201210371352.9，已授权，排名：2；
  18. 柔性基宏电子制造中微结构的大面积逆辊压印方法，ZL2007100190133，已授权，排名：3；
  19. 等离子体显示器平板障壁的大面积压印成型方法，ZL2007100181844，已授权，排名：3；
  20. 一种微米级特征的三维辊压模具及其制造方法，ZL2007100181859，已授权，排名：3；
  21. 一种可增强光反射柔性薄膜的制造方法，ZL201510344747.3，已授权，排名：3；
  22. 全禁带三维光子晶体压印成型方法，ZL2008100183609，已授权，排名：4；
  23. 非接触式模板约束下的电场诱导微复型方法，ZL2008102365616，已授权，排名：4；
  24. 一种机床测量用光栅尺保护膜的涂覆方法，ZL201110455547.7，已授权，排名：5；
  25. 小间隙平面间相对转动测量和旋转定位系统及方法, ZL2008102325591, 已授权，排名：5；
  26. 一种光栅尺辊压印生产线，CN202421718U，已授权，排名：5；
  27. 一种光栅尺压印平台，ZL2011205601088，已授权，排名：5；
  28. 一种绝对式光栅尺辊压印模具，ZL2011205601694，已授权，排名：5；
  29. 一种机床用长光栅辊压印模具精密电铸加工方法，ZL201210247375.9，已授权，排名：6；
  30. 染料敏化TiO2纳米晶太阳能电池的定制化导电薄膜及其制备, ZL2008100173787, 已授权，排名：6；
  31. 一种单码道绝对式光栅尺辊压印模具制造方法，CN102759855A，已公开，排名：5；
  32. 单码道绝对式光栅尺辊压印制造方法，CN102759857A，已公开，排名：5；
  33. 超长光栅尺辊压模具表面图形化的快速加工方法，CN102566260A，已公开，排名：5；
  34. 激光辅助辊压印制造机床用反射型长光栅工艺方法，CN102759856A，已公开，排名：6；
  35. 一种基于构造运动光场的单排时栅直线位移传感器, ZL201510072119.4,已授权，排名：5；
  36. 基于交变电场的绝对式直线时栅位移传感器，CN106197240A，排名：6.
  37. 全禁带三维光子晶体压印成型方法及全禁带三维光子晶体结构，CN101303524，排名：4.
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