面向气体光源的先进计算与智能控制技术研究
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深紫外准分子激光是集成电路制造领域（半导体光刻机）的主流光源，其运行时增益介质处于等离子体状态。在中美“贸易战”、“芯片战”、“关税战”国际背景下，国外对我国实行技术封锁，严重限制了我国集成电路产业的发展。
深紫外准分子激光在高频、高压条件下，存在能量稳定性差、时空均匀性差的瓶颈问题，基于逆向工程和扫参实验难以解决动态控制问题，正向设计理论和CAE工具缺乏。针对光刻用激光器研发缺少设计评估工具的瓶颈，开发了具有自有知识产权的新一代低温等离子体装置多物理场耦合计算软件PASSKEy2，并面向学术圈免费使用。
该软件成果是我国唯一经工业部门验证的，具备光刻用光源计算能力的流体-燃烧-静电-射频/微波-等离子体-粒子混合全功能的自主低温等离子体计算软件，得到国际顶尖团队（荷兰国家数学中心、美国普林斯顿大学、法国巴黎综合理工）的引用和使用。软件自2021年发布以来，网页下载2万余次，使用该软件发表论文达50余篇,总引用数接近1000次，成为我国光刻机光源腔室设计支撑软件。
下载与查看使用情况：http://www.plasma-tech.net/passkey2/passkey2/publications/
未来方向：开发高功率气体激光等离子体装置数字样机和主动调控优化技术