一种新型永磁体复合磁场触头结构及其应用的真空灭弧室
发布时间:2025-04-30
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- 专利名称:
- 一种新型永磁体复合磁场触头结构及其应用的真空灭弧室
- 发明设计人:
- 刘志远,马 慧,王建华,耿英三,闫 静,王振兴,张在秦
- 专利类型:
- 发明
- 申请号:
- ZL 201610027665.0
- 是否职务专利:
- 否
- 申请日期:
- 2017-11-03
- 发布时间:
- 2025-04-30
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