Xiangming Li

纳米压印光刻是一种模板复制式的光刻技术，与投影式光刻相比不受光学衍射限制，具有5nm以下的高分辨率，以及低成本、高效率的优势，被国际器件与系统路线图列为下一代光刻技术。课题组针对压印光刻的基础科学难题，尤其是微观界面润湿、粘附、摩擦等限制微纳结构成形缺陷率、可靠性和稳定性等问题，致力于寻找先进解决方案，开发原创性压印光刻工艺、材料、装备，支撑我国芯片制造领域先进光刻技术发展。