杯状纵磁触头纵向磁场滞后时间研究
发布时间：2025-04-30
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- 发布时间：
- 2025-04-30
- 论文名称：
- 杯状纵磁触头纵向磁场滞后时间研究
- 发表刊物：
- 高压电器
- 摘要：
- 用有限元法对杯状纵磁真空灭弧室触头简化的轴对称
模型涡流场进行了分析，给出了触头间隙中纵向磁场滞后时
间的空间分布， 讨论了触头设计参数对纵向磁场滞后时间的
影响。 计算结果表明'纵向磁场滞后时间沿径向分布的形状近
似于凹面朝下的抛物线右半部， 在触头边缘处纵向磁场滞后
时间随径向位置增大而线性增加。 纵向磁场滞后时间沿轴向
的分布规律是，靠近触头中心处，纵向磁场滞后时间沿轴向的
变化接近一条直线；越靠近触头边缘这种变化越显著，在杯壁
中间处呈不规则的“正弦曲线”分布，在触头边缘处呈凹面朝
上的抛物线分布。 纵向磁场滞后时间与设计参数的关系是)纵
向磁场滞后时间随开距的减小而线性增加； 随触头直径的减
小而单调递减；随触头片厚度的增加而线性增加；触头材料从
CuCr 50变到CuCr 25 时纵向磁场滞后时间增幅显著； 杯壁厚
度和杯高度对纵向磁场滞后时间几乎没有影响。
- 合写作者：
- 刘志远，王仲奕，王季梅，修士新
- 卷号：
- 2004年4月，第40卷第2期
- 页面范围：
- 87-90
- 是否译文：
- 否
- 发表时间：
- 2004-10-14