一种二次电子发射薄膜的缓冲层及其制备方法
Release Time:2025-04-30
Hits:
- Title:
- 一种二次电子发射薄膜的缓冲层及其制备方法
- Disigner of the Invention:
- 胡文波; 李洁; 吴胜利; 魏强; 华星; 郝玲
- Type of Patent:
- Invent
- Application Number:
- 2016110973425
- Service Invention or Not:
- No
- Application Date:
- 2016-12-02
- Date:
- 2025-04-30
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